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　　多家媒体报导指ASML二季度对我国的光刻机出口大幅增加，一季度对华光刻机出口大约8台，二季度则猛增至27台，环比暴升234%，显现出ASML或许考虑到9月1日后对华光刻机出口受限，而赶紧对华出货。

　　多家媒体报导指国内闻名存储芯片企业长江存储的董事长指出已买回的光刻机因保护和零件问题或许无法运用，因而提出依据公正准则，ASML理应回购这些光刻机，凸显出我国芯片企业的愤恨。 由于美国的阻遏，A

　　荷兰方面正式宣告了最新的决议，要求企业出口先进设备前需求取得许可证，新规将在9月1日收效，明眼人都知道这一规则针对的是谁，不过荷兰此举影响的将不仅是我国芯片，对它自家的芯片设备工业也将构成冲击。

　　美国撮合了日本、荷兰，从芯片设备方面进一步加码约束我国芯片，不过日前闻名院士倪光南以为我国在存储芯片方面具有自己的中心知识产权，不会受EUV光刻机的约束所影响。 据了解现在全球干流的NAND f

　　众所周知，现在全球仅有一家厂商，能够出产EUV光刻机，它便是荷兰的ASML。而之所以全球仅此一家，这是由于ASML将许多要害的厂商捆绑在了一同，比方德国光学公司蔡司（Zeiss），再比方美国的Cymer，再比方德国的通快集团（TRUMPF）等

　　近来，我国科学院理化技能研讨所仿生智能界面科学中心有机纳米光子学试验室研讨员郑美玲团队在跨规范微纳拓扑结构制备及细胞球浸润性调控方面取得了新进展。

　　中科院理化所仿生智能界面科学中心有机纳米光子学试验室郑美玲研讨员团队近来在跨规范微纳拓扑结构制备及细胞球浸润性调控方面取得了新进展。该团队提出选用飞秒激光无掩膜投影光刻技能（MOPL）制备大面积兼具高精度的微盘阵列拓扑结构以研讨细胞球的浸润性。

　　跟着安排工程范畴的开展，生物资料界面与细胞的相互作用及物理机制成为研讨热门。生物界面的拓扑描摹能够有用调控细胞行为并影响细胞功用。而体内的一些生理进程如胚胎发育、免疫应对和安排更新与重塑等往往触及多细胞的团体行为

　　估计未来一段时间，在技能立异推进下，我国步进式光刻机职业开展速度将进一步加速。 光刻机一般分为扫描式光刻机和步进式光刻机两种，步进式光刻机为商场干流产品。步进式光刻机指把投影掩模版上的图形与涂胶硅片进行对准，然后从一点到另一点进行逐场曝光操作的光刻机

　　知情郎·眼｜科技那些事儿半导体范畴作为我国科技开展的短板，在这个范畴一向受限于人，但中企们也没有挑选束手待毙，大力推进自研芯片和自研半导体设备的开展，进一步完结自主可控。现在哈工大发布新效果，光刻机关

　　经过运用钛:蓝宝石（Ti：Sapphire）激光和中红外自由电子激光来结构硅，日本科学家们现已证明了激光诱导的周期性外表结构(LIPSS)是怎么随激光性质而发生变化的。

　　近来，武汉宇微光学软件有限公司（以下简称“宇微光学”）宣告完结A轮数千万融资，致道本钱联合武汉光谷工业出资、烽烟创投三家组织一起参加出资。本轮融资完结后，宇微光学将进一步加强各中心模块的集成化与软件产品化，一起对各项软件参数进行标定、测验与验证

　　6 月 30 日音讯，据 BusinessKorea 报导，三星电子副董事长李在镕于 6 月中旬完毕了对欧洲的商务拜访，此行他与 ASML 公司就引入该荷兰半导体设备制作商的下一代极紫外（EUV）光刻设备进行了谈判。

　　ASML光刻机就现在来看，其具有着芯片研讨部最中心的激光设备——光刻机，而且，关于EUV后台零配件早已构成一套规范供给链闭环，这也是ASML公司全球最大半导体设备制作商原因之一。

　　近期，高端光学配备及机器视觉光源厂商科视光学完结了近4亿元C轮融资，本轮融资由中芯聚源、民生股权出资基金、洪泰基金联合领投，工业出资方鑫睿本钱、共享出资等跟投。云岫本钱担任本轮融资独家财务顾问。科视光

　　最新陈述显现，激光资料商场在2021年估计为18亿美元，到2028年有望到达约20亿美元的估值，2022-2028年间以5.8%的复合年增加率开展。激光资料商场的增加是由光刻技能的激增需求、各种终端笔直范畴激光的不断增加以及军事工业的增加所驱动的。

　　项目概略激光直写无掩模光刻机曝光机收买 招标项目的潜在招标人应在线上获取获取招标文件，并于2022年05月10日 09点30分（北京时间）前递送招标文件。一、项目基本情况项目编号：ZZ0023－G22

　　北京市公共资源买卖服务渠道日前发布《投影光刻机曝光光学体系研制及批量出产基地项目洁净工程中标提名人公示》，四联智能技能股份有限公司等三家企业位列中标提名人。揭露资料显现，该出产基地建设单位为北京国望光

　　俄乌开战引发全球重视，给芯片职业带来了巨大的危险，并加重了当时供给链的严重局势。所谓牵一发而动全身，你或许想不到的是，这也与激光职业产生了必定的相关：这种用于光刻机的光刻气体，便是大部分干流光刻机“光源”不可或缺的一种重要原资料。

　　德国通快集团在不久前完结了第200台EUV光刻机光源的发货。通快估计，在2022财年EUV事务出售额将大幅增加到6亿欧元。

　　1月19日，全球光刻机龙头ASML 发布了其2021年第四季度和2021全年的成绩。第四季度净出售额为50亿欧元，毛利率为54．2％，净收入为18亿欧元；2021年净出售额为186亿欧元，毛利率为52．7％，净收入为59亿欧元

　　运用激光蚀刻玻璃制成的光盘，能够使得存储密度比较蓝光光盘提高 10000倍以上。

　　第三季度净预定量为62亿欧元，其间包含22亿欧元（相当于人民币164亿元）的 EUV 出售额。

　　茂莱光学首要产品掩盖深紫外DUV、可见光到远红外全谱段，首要包含精细光学器材、高端光学镜头和先进光学体系三大类

　　6月21日，浙江京华激光科技股份有限公司股票忽然停牌，6月22日复牌后低开低走，终究报收14.73元，跌幅达6.06％。2020年6月，京华激光宣告现已从子公司美国菲涅尔签约引入两台光刻机。

　　2020年，ASML设备出售额为103亿欧元，其间EUV光刻体系出售再立异高，全年出售31台，出售额达45亿欧元，同比增加60％，占设备出售额的43％。通快是ASML EUV光刻机光源的独门供货商，有关EUV运用的出售额同比增加了近20％，达4.6亿欧元。

　　?世界上最大的图画化半导体晶片的光刻设备供货商ASML发布了创纪录的近140亿欧元的年度出售额，比2019年的数字增加了18％。跟着客户持续出资，估计下一年出售额将进一步增加。

　　德国光学组件和传感器体系供货商Jenoptik斥资千万欧元，出资了一种新的电子束（E－Beam）光刻体系。该体系是开发和出产下一代超精细传感器的中心部件，这对进一步开发DUV和在半导体出产进程中树立高精度EUV晶片曝光至关重要。

　　据外媒报导，三星电子副董事长李在镕于日前前往荷兰会晤阿斯麦公司（ASML）的高管，以讨论在开发下一代半导体技能方面的协作方法。这并非李在镕初次与ASML高鄙见面攀谈，最早一次两边攀谈可追溯至2016年

　　前语惯例紫外投影光刻机需求先制作掩模板，耗材本钱高、制备周期长，很难满意资料器材试验室对灵活性和试验进展的要求。近年开展起来的无掩模光刻技能打破这一技能约束，完结恣意形状编程、全自动高精度大规范拼接的无掩模光刻，随时将您的规划转化为实践的制品，大幅度削减研制测验周期，强有力地助攻微纳器材制备作业

　　通快举办了一场精彩的新品发布会，包含碟片激光器、纳秒激光器、飞秒激光器以及新一代激光三维机床等在内的15项新产品完结“我国首发”。发布会完毕后，OFweek激光网对通快我国激光事业部总经理黄哲进行了采访。

　　近来，荷兰光刻机巨子ASML宣告方案收买光学公司Berliner Glas，以稳固要害部件的供给。ASML于当地时间7月15日刚发布第二季度成绩，比较第一季，ASML第二季度成绩明显提高，出售额相较第一季度强增加35％，到达33亿元，毛利率到达48．2％

　　6月16日，京华激光在互动渠道答复出资者发问时表明，截止现在，公司现已从子公司美国菲涅尔制版科技公司签约引入两台光刻机，其间一台现已投入运转，公司控股公司美国菲涅尔制版科技公司有光刻机的研制与出售。

　　依据光刻机所用光源改善和工艺立异，光刻机阅历了 5 代产品开展，每次改善和立异都明显提高了光刻机所能完结的最小工艺节点。

　　据媒体报导，上海微电子配备（集团）股份有限公司发表，将在2021－2022年交给第一台28nm工艺的国产的沉溺式光刻机。尽管这与当今世界顶尖的7nm甚至是5nm光刻机还稀有代的隔膜，可是距离现已大大缩小，究竟在此之前国产光刻机仍是90nm。

　　导体光刻用光源的制作商Gigaphoton宣告，公司现已开端发货新的KrF激光器“ G300K”，作为其GIGANEX系列的一部分，该系列运用半导体制作光刻光源。

　　现在最先进的第五代光刻机选用EUV光刻技能，以波长为10－14nm的极紫外光作为光源。ASML出产的EUV光刻机光源由激光职业的巨子通快集团供给。通快集团为ASML供给用于极紫外光刻的特别激光器是通快成绩增加的要害驱动力，18/19财年该事务的收入从2.6亿欧元增加到3.9亿欧元，增加了48％。